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中束流离子注入机 CI P900

产品简介

CI P900 中束流离子注入机工艺能力覆盖至28nm，可用于中低剂量掺杂和精确角度与剂量控制的工艺步骤。设备采用先进的离子束技术，确保注入过程的精确性和稳定性。累计已有140多台进入国内最先进的极大规模集成电路生产线，12英寸晶圆量产超8000万片。

核心优势

覆盖28nm及以上工艺节点
精确的角度与剂量控制
高可靠性长周期稳定运行
适用中低剂量掺杂工艺
先进的离子束传输系统

产品参数

能量范围： 5keV-200keV
剂量范围： 1E13-5E16 ions/cm²
均匀性： ≤1%
晶圆尺寸： 6/8英寸
适用工艺： 化合物半导体
角度控制： ≥300°C