中束流离子注入机CI P900

可用于中低剂量掺杂和精确角度与剂量控制的工艺步骤，如阈值电压调整注入，沟道阻隔注入，晕注入、袋注入等工艺，整机完全适应大生产制造，具备自优化及自适应控制功能。

中束流离子注入机CI A900XP

可用于中低剂量掺杂和精确角度与剂量控制的工艺步骤，如阈值电压调整注入，沟道阻隔注入，晕注入、袋注入等工艺，整机完全适应大生产制造，具备自优化及自适应控制功能。

中束流高温离子注入机CI P900 HT

可用于中低剂量掺杂和精确角度与剂量控制的工艺步骤，如阈值电压调整注入，沟道阻隔注入，晕注入、袋注入等工艺，整机完全适应大生产制造，具备自优化及自适应控制功能。

中束流MRK离子注入机 CI P900MRK

CI P900MRK作为CI P900系列延伸机台，其核心技术是高端半导体离子注入机核心配套部件技术升级。

中束流碳化硅离子注入机CI P900SiC

可用于中低剂量掺杂和精确角度与剂量控制的工艺步骤，如阈值电压调整注入，沟道阻隔注入，晕注入、袋注入等工艺，整机完全适应大生产制造，具备自优化及自适应控制功能。

新一代低能大束流离子注入机CI C60XP

低能大束流迭代CI C60XP，主要是基于本公司大束流离子注入CI C60的平台，在硬件上优化光路上的核心模块，在软件上开发更友好更安全的操作系统，从而实现低能量、大剂量的条件下，更均匀、更安全、更高效的离子注入掺杂工艺需求。